| 发明名称 | 多功能抛光垫 | ||
| 摘要 | 一种适合对包含铜、电介质、阻挡层和钨中至少一种的图案化的半导体基材进行抛光的抛光垫。抛光垫包含聚合物基质；该聚合物基质是多元醇掺混物、多胺或多胺混合物和甲苯二异氰酸酯的聚氨酯反应产物。多元醇掺混物是15-77重量％的聚丙二醇和聚四亚甲基醚乙二醇的混合物，该混合物的聚丙二醇与聚四亚甲基醚乙二醇重量比为20∶1至1∶20。多胺或多胺混合物占8-50重量％；甲苯二异氰酸酯为15-35重量％的单体或部分反应的甲苯二异氰酸酯的单体。 | ||
| 申请公布号 | CN101961854A | 申请公布日期 | 2011.02.02 |
| 申请号 | CN201010240775.8 | 申请日期 | 2010.07.23 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 | 发明人 | M·J·库尔普;E·S·西蒙 |
| 分类号 | B24B37/04(2006.01)I;B24D3/28(2006.01)I;B24B3/14(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 樊云飞;周承泽 |
| 主权项 | 一种适合对包含铜、电介质、阻挡层和钨中的至少一种的图案化的半导体基片进行抛光的抛光垫，该抛光垫包含聚合物基质，所述聚合物基质是多元醇掺混物、多胺或多胺混合物与甲苯二异氰酸酯的聚氨酯反应产物，所述多元醇掺混物占15‑77重量％，是聚丙二醇和聚亚四甲基醚乙二醇的混合物，该聚丙二醇和聚亚四甲基醚乙二醇混合物的聚丙二醇与聚亚四甲基醚乙二醇的重量比为20∶1至1∶20，多胺或多胺混合物占8‑50重量％，甲苯二异氰酸酯占15‑35重量％，是单体或部分反应的甲苯二异氰酸酯单体。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||