磁控共溅射制备高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜的方法

摘要

磁控共溅射制备高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜的方法，它涉及制备无氢非晶碳化锗薄膜方法。本发明现有方法得到的氢化碳化锗薄膜热稳定性差、高温红外性能下降的问题。本方法如下：将经过丙酮、质量浓度为99.5％的乙醇溶液和去离子水清洗的硫化锌加热后保温，然后通入氩气进行反溅清洗，再施加溅射功率启辉，预溅射3～5分钟至压强降至0.1帕～2帕，然后在脉冲负偏压为0～-200伏、占空比为10％～90％的条件下，对经过步骤二处理的硫化锌表面施镀，然后在真空条件下自然冷却至室温，即得无氢非晶碳化锗薄膜。本发明所得的无氢非晶碳化锗薄膜的折射率可以在2.0～4.0较大的范围内调节，本发明方法所得无氢非晶碳化锗薄膜热稳定性好、高温红外性能优良。

主权项

磁控共溅射制备高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜的方法，其特征在于磁控共溅射制备高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜的方法如下：一、将硫化锌用丙酮超声波清洗15～30分钟，再用质量浓度为99.5％的乙醇溶液清洗15～30分钟，最后用去离子水清洗15～30分钟；二、将经过步骤一处理的硫化锌在真空度为1.0×10‑4～9.9×10‑4帕的条件下，加热至25～700℃，然后保温10～120分钟后通入氩气，再在压强为3～5帕的条件下，对硫化锌表面进行反溅清洗10～20分钟；三、在石墨靶上的溅射功率为60～200瓦、锗靶上的溅射功率为60～200瓦、气体流量为10～50毫升/分钟的条件下，施加溅射功率启辉，预溅射3～5分钟至压强降至0.1～2帕，然后在脉冲负偏压为0～‑200伏、占空比为10～90％的条件下，对经过步骤二处理的硫化锌表面镀膜，然后在真空条件下自然冷却至室温，即得高热稳定性无氢非晶碳化锗薄膜。