发明名称 加热装置、衬底处理装置以及半导体装置的制造方法
摘要 本发明提供加热装置、处理衬底的衬底处理装置、以及半导体装置的制造方法,其课题在于,抑制发热体的偏移,并抑制基于发热体的热变形的保持件的剪切,抑制发热体发生了热膨胀时的发热体与隔热体的接触,降低加热装置的构成部件的损伤。加热装置具有:发热体,该发热体的两端固定,通过峰部和谷部交替地多个相连而形成为蛇行状;保持体承受部,该保持体承受部分别设在谷部的末端,作为具有比谷部的宽度大的宽度的切缺部而形成;隔热体,该隔热体设置在发热体的外周;保持体,该保持体配置在保持体承受部内并固定在隔热体上,并且加热装置具有:形成为环状的发热体;以围绕发热体的外周的方式设置的隔热体;将发热体固定在隔热体的内壁上的固定部,设定为:至少在发热体为室温状态时,发热体与隔热体的内壁之间的距离随着从固定部远离而变大。
申请公布号 CN101964303A 申请公布日期 2011.02.02
申请号 CN201010236145.3 申请日期 2010.07.21
申请人 株式会社日立国际电气 发明人 村田等;小杉哲也;杉浦忍;上野正昭
分类号 H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 陈伟
主权项 一种加热装置,具有:发热体,该发热体的两端固定,通过峰部和谷部交替地多个相连而形成为蛇行状;保持体承受部,该保持体承受部分别设在所述谷部的末端,作为具有比所述谷部的宽度大的宽度的切缺部而形成;隔热体,该隔热体设置在所述发热体的外周;保持体,该保持体配置在所述保持体承受部内并固定在所述隔热体上。
地址 日本东京都