| 发明名称 | 具有锥体结构的硅表面的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及具有锥体结构的硅表面的制备方法，其中将具有所述硅表面的硅片浸入蚀刻液中。为了制备尽可能均匀的锥体结构，本发明建议在硅表面与蚀刻液接触前用臭氧对该表面进行处理。 | ||
| 申请公布号 | CN101965642A | 申请公布日期 | 2011.02.02 |
| 申请号 | CN200980107791.5 | 申请日期 | 2009.03.12 |
| 申请人 | 瑞纳有限责任公司 | 发明人 | 于尔根·施韦肯迪克;阿梅德·A·埃尔乔哈里 |
| 分类号 | H01L31/0236(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0236(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 贾静环 |
| 主权项 | 具有锥体结构的硅表面的制备方法，其中将具有该硅表面的硅片浸入蚀刻液中，其特征在于，在硅表面与蚀刻液接触前用臭氧处理硅表面。 | ||
| 地址 | 德国居滕巴赫 | ||