| 摘要 |
一种用于光刻胶的防反射涂料组合物和制造这种涂料的方法，此涂料的折射指数为自大于约1.20至约1.40，它能以单个四分之一波长厚度使用，并能用下层光刻胶的显影剂来除去；此涂料组合物包含含有下列单元的共聚物(a)。式中X为CO<SUB>2</SUB>L，SO<SUB>3</SUB>L，OH，OC(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>X</SUB>OH，CONHC(CH<SUB>3</SUB>)<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>SO<SUB>3</SUB>L，PO<SUB>3</SUB>L<SUB>2</SUB>或CONH<SUB>2</SUB>，式中L＝H，I族或II族阳离子或NH4+，而X＝0-10，(b)式中Y是氟或含氟脂族有机取代基，优选选自COO(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>，SO<SUB>2</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB> SO<SUB>2</SUB>(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>X</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(DF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>，CO(OC<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>)<SUB>X</SUB>O(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>X</SUB>(CF<SUB>2</SUB>)<SUB>n</SUB>CF<SUB>3</SUB>或 |
