发明名称 |
一种基于KTN晶体的变焦透镜的轴向随机扫描方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于KTN晶体的变焦透镜的轴向随机扫描方法,包括如下步骤:提供一种长方体KTN晶体,所述长方体KTN晶体包含Ta和Nb,其中Ta的重量百分比在所述长方体KTN晶体1的两个相对表面之间线性变化;在所述两个相对表面各镀上一电极层,在所述两个相对表面的电极层上施加一电压;将入射波前垂直入射到所述长方体KTN晶体的其他表面,所述长方体KTN晶体对所述入射波前进行折射并聚焦,其中所述入射波前为平面波;改变施加在所述两个相对表面的电极层上的电压,进而改变所述长方体KTN晶体对所述入射波前聚焦的焦距。本方法扫描范围理论上可以达到500μm,可运用于神经元和神经回路功能的研究。 |
申请公布号 |
CN101963699A |
申请公布日期 |
2011.02.02 |
申请号 |
CN201010275473.4 |
申请日期 |
2010.09.08 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
杜睿;曾绍群;骆清铭 |
分类号 |
G02B26/10(2006.01)I;G02F1/03(2006.01)I |
主分类号 |
G02B26/10(2006.01)I |
代理机构 |
武汉开元知识产权代理有限公司 42104 |
代理人 |
唐正玉 |
主权项 |
一种基于KTN晶体的变焦透镜的轴向随机扫描方法,包括如下步骤:提供一种长方体KTN晶体,所述长方体KTN晶体包含Ta和Nb,其中Ta的重量百分比在所述长方体KTN晶体1的两个相对表面之间线性变化;在所述两个相对表面各镀上一电极层,在所述两个相对表面的电极层上施加一电压;将入射波前垂直入射到所述长方体KTN晶体的其他表面,所述长方体KTN晶体对所述入射波前进行折射并聚焦,其中所述入射波前为平面波;改变施加在所述两个相对表面的电极层上的电压,进而改变所述长方体KTN晶体对所述入射波前聚焦的焦距。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区华中科技大学光电国家实验室G303 |