发明名称 生产五环紫杉烷的方法
摘要 本发明提供了可有效地和廉价地生产紫杉烷衍生物,该紫杉烷衍生物可用于可经口给用的抗肿瘤化合物。本发明提供了:式(1)所示的化合物(其中R<sup>1</sup>为烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基或杂环基;R<sup>2</sup>为任选具有保护基的羟基)用碱金属高锰酸盐进行处理以生成式(2)的化合物,该化合物可为用于可经口给用的抗肿瘤化合物的起始原料。<img file="200580011787.0_ab_0.GIF" wi="479" he="200" />
申请公布号 CN1942473B 申请公布日期 2011.02.02
申请号 CN200580011787.0 申请日期 2005.04.27
申请人 第一制药株式会社 发明人 井村明弘;山口达也;高柳佳弘;内田诚士郎
分类号 C07D493/04(2006.01)I;A61K31/443(2006.01)I;A61P35/00(2006.01)I;C07D213/61(2006.01)I 主分类号 C07D493/04(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 刘慧;杨青
主权项 1.用于生产以下通式(2)的化合物或其盐的方法,该方法包括使下式(1)的化合物与碱金属高锰酸盐反应:<img file="FSB00000150639900011.GIF" wi="816" he="427" />在式(1)中,下式(1-a)的部分结构的6-位和7-位之间的虚线:<img file="FSB00000150639900012.GIF" wi="419" he="163" />表示该部分的键是单键或双键;boc是指叔丁氧羰基;Ac是指乙酰基;Bz是指苯甲酰基;R<sup>1</sup>是指烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基或杂环基,所述烷基、烯基、炔基、环烷基、芳基或杂环基任选地具有一个或多个选自以下的取代基:卤原子、羟基、羧基、烷基、烷氧基、苯基、氨基、烷基氨基、氨基烷基、烷基氨基烷基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、酰基、酰胺基和酰氧基;R<sup>2</sup>是指任选具有保护基的羟基:<img file="FSB00000150639900013.GIF" wi="884" he="525" />在式(2)中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、boc、Ac和Bz具有与上述相同的含义。
地址 日本东京都