发明名称 |
反射罩及照明装置 |
摘要 |
本发明涉及一种用于调整发光二极管光源的光分布的反射罩,其包括一个底板及一个反射环。该底板的中间区域用于容置所述发光二极管光源。该反射环设置在该底板上的环绕该底板的中间区域。该反射环与该底板组合形成一内部空间,该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元。每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面,该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。 |
申请公布号 |
CN101963327A |
申请公布日期 |
2011.02.02 |
申请号 |
CN200910304836.X |
申请日期 |
2009.07.24 |
申请人 |
富士迈半导体精密工业(上海)有限公司;沛鑫能源科技股份有限公司 |
发明人 |
彭巧伶;陈添宝;洪沛渊;张雪珍;赖志铭 |
分类号 |
F21V7/10(2006.01)I;F21V7/04(2006.01)I;F21Y101/02(2006.01)N |
主分类号 |
F21V7/10(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种反射罩,用于调整发光二极管光源的光分布,其包括:一个底板,该底板的中间区域用于容置发光二极管光源;一个设置在该底板上的环绕该底板的中间区域的反射环,该反射环与该底板组合形成一内部空间,该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元,每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面,该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。 |
地址 |
201600 上海市松江区松江工业区西部科技工业园区文吉路500号 |