发明名称 反射罩及照明装置
摘要 本发明涉及一种用于调整发光二极管光源的光分布的反射罩,其包括一个底板及一个反射环。该底板的中间区域用于容置所述发光二极管光源。该反射环设置在该底板上的环绕该底板的中间区域。该反射环与该底板组合形成一内部空间,该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元。每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面,该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。
申请公布号 CN101963327A 申请公布日期 2011.02.02
申请号 CN200910304836.X 申请日期 2009.07.24
申请人 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司;沛鑫能源科技股份有限公司 发明人 彭巧伶;陈添宝;洪沛渊;张雪珍;赖志铭
分类号 F21V7/10(2006.01)I;F21V7/04(2006.01)I;F21Y101/02(2006.01)N 主分类号 F21V7/10(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种反射罩,用于调整发光二极管光源的光分布,其包括:一个底板,该底板的中间区域用于容置发光二极管光源;一个设置在该底板上的环绕该底板的中间区域的反射环,该反射环与该底板组合形成一内部空间,该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元,每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面,该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。
地址 201600 上海市松江区松江工业区西部科技工业园区文吉路500号