镀膜装置

摘要

一种镀膜装置，其用于对一个待镀膜基板进行镀膜。该镀膜装置包括一个主腔体及一个反应装置。待镀膜基板与反应装置相对设置并收容于主腔体内。反应装置包括一个承载板、一个反应部、一个准直管及一个盖体。承载板用于承载一个靶材。承载板与盖体分别设置在反应部的相对两端以封闭反应部。准直管位于反应部内且将反应部分成一个第一腔体及一个第二腔体。靶材位于第一腔体内。盖体上开设多个与第二腔体相连通的通孔。该镀膜装置通过在主腔体内设置反应装置并在反应装置的第一腔体及第二腔体内分别生成PVD及CVD镀膜的膜料，无需将待镀膜基板移出主腔体，操作简单，而且由于准直管的设置使PVD镀膜时的靶原子较均匀，从而使镀膜效果较好。

主权项

一种镀膜装置，其用于对一个待镀膜基板进行镀膜，所述镀膜装置包括一个主腔体，所述待镀膜基板收容于所述主腔体内，其特征在于，所述镀膜装置还包括一个反应装置，所述反应装置收容于所述主腔体内并与所述待镀膜基板相对设置，所述反应装置包括一个承载板、一个反应部、一个准直管及一个盖体，所述承载板用于承载一个靶材，所述承载板与所述盖体分别设置在所述反应部的相对两端以封闭所述反应部，所述准直管位于所述反应部内且将所述反应部分成一个第一腔体及一个第二腔体，所述靶材位于所述第一腔体内，所述盖体上开设多个与所述第二腔体相连通的通孔。