一种优化曝光装置监控的方法

摘要

本发明公开了一种优化曝光装置监控的方法，所述曝光装置的监控是针对曝光装置工作的特征尺寸的均匀度和聚焦稳定性的监控。本发明提供的监控方法是把对特征尺寸的均匀度的监控和聚焦稳定性的监控融合起来，把晶片分成两部分，一部分用来测试特征尺寸的均匀度，另一部分用来监测曝光装置聚焦的稳定性。在同一片晶片上就可同时读取这两个部分的测试数据，并行处理与分析曝光装置工作的特征尺寸均匀度和聚焦稳定性。与现有技术相比，本发明可有效缩短监控过程所需时间，提高了聚焦稳定性监控的精确度。

主权项

一种优化曝光装置监控的方法，该方法融合了对曝光装置特征尺寸均匀度和聚焦稳定性监控，其特征在于：把晶片分成两部分，一部分以特征尺寸均匀度的方法进行曝光，用以监控特征尺寸均匀度，另一部分以变焦距特征尺寸分析法进行曝光，用以监测聚焦稳定性，最后同时读取这两部分特征尺寸数据，进行并行处理与分析。