发明名称 用于微调电容器之制作金属转子的方法
摘要 传统上,使用冷锻法或铸造法来制造一个用于一微调电容器的金属转子需要一金属模子被额外地用于此金属转子,其招致相关于此模子之制造与维修的成本,然而,根据本发明,一个金属转子能够藉蚀刻而非冷锻或铸造来获取,特别是,一个金属板被提供其具有为一转子电极之表面所需的具有一预先决定之平滑程度的主表面,此金属板使用抗蚀剂被选择性地蚀刻以形成为此转子电极所需之一阶梯部分、一传动槽以及一周边面,其均为此金属转子的组件。
申请公布号 TW345669 申请公布日期 1998.11.21
申请号 TW086100210 申请日期 1997.01.10
申请人 村田制作所股份有限公司 发明人 上田幸宪;伊藤邦夫;岸下浩幸
分类号 H01G5/00 主分类号 H01G5/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.制造一个用于一微调电容器之金属转子的方法,该金属转子具有一上表面、一下表面以及一连接该上表面与下表面的周边面,其中一转子电极表面系由从该下表面的一部分投影之阶梯部分的表面所形成,并且其中一传动槽被形成在该上表面上,该方法包括步骤:提供一个具有一主表面之金属板;及使用一蚀刻抗蚀剂选择性地蚀刻该金属板以形成该阶梯部分于该下表面上、该传动槽于该上表面上,以及该周边面介于其间,该转子电极表面系由该金属板之该主表面的一部分所组成。2.如申请专利范围第1项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,再包括以一个为该转子电的极表面所需之预先决定的平滑程度提供给该金属板之该主表面的步骤。3.如申请专利范围第2项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该平滑程度为一大约5微米或5微米以下的表面粗度。4.如申请专利范围第2项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中提供具有该平滑程度之金属板的主表面之该步骤被执行在该周边面被形成之前。5.如申请专利范围第4项之制造一个用于一微调电器的金属转子之方法,其中提供具有该平滑程度之金属板的主表面之该步骤被执行在该蚀刻步骤之前。6.如申请专利范围第2项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中提供具有该平滑程度之金属板的主表面被执行在该蚀刻步骤之前。7.如申请专利范围第1项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中用以提供该具有一预先决定的平滑程度之该转子电极表面之平滑步骤被执行于该周边面被形成之后。8.如申请专利范围第7项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该平滑程度为一大约5微米或5微米以下的表面粗度。9.如申请专利范围第1项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该传动槽部分地延伸通过该金属板。10.如申请专利范围第9项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该传动槽完全地延伸通过该金属板。11.如申请专利范围第1项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该蚀刻步骤再包括形成一相邻于该阶梯部分的投影部分于该下表面上之步骤。12.如申请专利范围第11项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该投影部分被形成与该阶梯部分间隔分开。13.如申请专利范围第11项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该投影部分和该阶梯部分被连续地形成。14.如申请专利范围第13项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,其中该投影部分系沿着该周边面而被形成。15.如申请专利范围第2项之制造一个用于一微调电容器的金属转子之方法,再包括提供一相对于具有该预先决定之平滑程度的该主表面之该金属板的第二表面之步骤。图式简单说明:第一图A到第一图F系依序地例举说明被包括在根据本发明的一个实施例之制造一用于微调电容器的金属转子之方法中的步骤之断面图。第二图A到第二图E系连续地例举说明被包括在根据本发明之另一实施例的制程一用于微调电容器之金属转子的方法中之步骤的断面图。第三图系一金属转子3a当此金属转子由其上表面10之侧边被观察的透视图,显示能够依照根据本发明之制造的方法而被制造之金属转子的另一例。第四图系显示于第三图中之金属转子3a的断面图。第五图系一金属转子3a当此属转子由其下表面11之侧边被观察的透视图,显示能够依照根据本发明之制造的方法而被制造之金属转子的又一例。第六图系一个对本发明而言具相同之背景与趣的已知之微调电容器1的断面图。第七图系被包括在显示于第六图中之微调电容器1中的金属转子3当此金属转子由其上表面10的侧边被观察之透视图。第八图系显示于第七图中之金属转子3当此金属转子由其下表面11的侧边被观察之透视图。
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