发明名称 遮光层、遮光层之形成方法及基板之制造方法
摘要 一种具备遮光层之基板制法,其特征为含有接枝化碳材料作为遮光材料,该遮光材料系由电极沈积涂装所形成之遮光层,含有将含接枝化碳材料之涂料,电极沈积涂装于电极之步骤:(1)在透明基板上所形成之透明导电层上,形成感光性涂膜,(2)使前述感光性涂膜之所定领域曝光,(3)使感光性涂膜显像并除去,使透明导电层露光,在露光之透明导电层上,将含接枝化碳材料之涂料电极沈积涂装,而形成遮光层;及(4)将所得基板加热。
申请公布号 TW351770 申请公布日期 1999.02.01
申请号 TW085109519 申请日期 1996.08.06
申请人 大印刷股份有限公司 发明人 安藤雅之
分类号 G02F1/1335 主分类号 G02F1/1335
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种遮光层,其含有接枝化碳材料作为遮光材料,该遮光材料系由电极沈积涂装所形成。2.一种遮光层之形成方法,其特征为含有,将含接枝化碳材料之涂料,电极沈积涂装于电极之步骤。3.一种基板之制造方法,其具备遮光层,其特征为具下列步骤:(1)在透明基板上所形成之透明导电层上,形成感光性涂膜,(2)使前述感光性涂膜之所定领域曝光,(3)使感光性涂膜显像并除去,使透明导电层露光,在露光之透明导电层上,将含接枝化碳材料之涂料电极沈积涂装,而形成遮光层;及(4)将所得基板加热。4.如申请专利范围第3项之制造方法,其中,前述感光性涂膜为正型感光性涂膜,将(2)前述感光性涂膜所定领域曝光之步骤,系透过仅相当于遮光层之部分为曝光之罩来进行者。5.如申请专利范围第3项之制造方法,其中,前述感光性涂膜为负型感光性涂膜,将(2)前述感光性涂膜所定领域曝光之步骤,系透过仅相当盼遮光层部分以外之部分为曝光之罩进行者。
地址 日本