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发明名称
METHOD OF FORMING RUTHENIUM-CONTAINING FILMS BY ATOMIC LAYER DEPOSITION
摘要
申请公布号
IL209208(D0)
申请公布日期
2011.01.31
申请号
IL20100209208
申请日期
2010.11.09
申请人
SIGMA-ALDRICH CO.
发明人
分类号
C23C
主分类号
C23C
代理机构
代理人
主权项
地址
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