| 发明名称 |
HIGH RESISTANCE PROCESSING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11154651(A) |
申请公布日期 |
1999.06.08 |
| 申请号 |
JP19970320958 |
申请日期 |
1997.11.21 |
| 申请人 |
OSAKA GAS CO LTD |
发明人 |
HIRANO HIKARI;AKASAKI ISAMU;AMANO HIROSHI |
| 分类号 |
H01L31/10;H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 |
主分类号 |
H01L31/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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