发明名称 |
一种石英玻璃坩埚及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种石英玻璃坩埚,所述石英玻璃坩埚包括坩埚基体,坩埚基体的内表面上涂敷有理论厚度0.2~2.0mm的透明涂层1和理论厚度0.2~2.0mm的透明涂层2,透明涂层1是通过熔融合成石英砂制备得到,透明涂层2是通过熔融将氮化硅掺杂入石英砂2得到的混合物制备得到,所述的氮化硅的质量为石英砂2的质量的5~50%,所述石英砂2为合成石英砂或天然石英砂与合成石英砂以任意比例的混合。本发明提供的石英玻璃坩埚在提拉单晶硅的使用过程中,能够获得比较稳定的拉晶进程,得到较高的单晶产率,拉晶阶段熔融硅熔体表面不会发生抖动,石英坩埚内表面无方石英斑点出现。并且工艺简单,操作方便;生产过程采用自动化操作自动完成。 |
申请公布号 |
CN101956231A |
申请公布日期 |
2011.01.26 |
申请号 |
CN201010522058.4 |
申请日期 |
2010.10.28 |
申请人 |
杭州先进石英材料有限公司 |
发明人 |
王春来;周勇;渥美崇 |
分类号 |
C30B15/10(2006.01)I;C03B20/00(2006.01)I;C03C17/34(2006.01)I |
主分类号 |
C30B15/10(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天正专利事务所有限公司 33201 |
代理人 |
黄美娟;王兵 |
主权项 |
一种石英玻璃坩埚,所述石英玻璃坩埚包括坩埚基体,其特征在于所述石英玻璃坩埚的坩埚基体的内表面上涂敷有内表面透明涂层,所述内表面透明涂层由理论厚度0.2~2.0mm的透明涂层1和理论厚度0.2~2.0mm的透明涂层2组成,其中透明涂层1是通过熔融石英砂1制备得到,所述石英砂1为合成石英砂;透明涂层2是通过熔融将氮化硅掺杂入石英砂2得到的混合物制备得到,所述的氮化硅的质量为石英砂2的质量的5~50%,所述石英砂2为合成石英砂或天然石英砂与合成石英砂以任意比例的混合;所述透明涂层1和透明涂层2按下列方式之一组成内表面透明涂层:①透明涂层1涂敷于坩埚基体的全部内表面,透明涂层2涂敷于透明涂层1的全部表面、透明涂层1的底部表面或透明涂层1的壁部表面;②透明涂层2涂敷于坩埚基体的全部内表面,透明涂层1涂敷于透明涂层2的底部表面或透明涂层2的壁部表面;③透明涂层1涂敷于坩埚基体的底部内表面,透明涂层2涂敷于坩埚基体的壁部内表面,透明涂层1与透明涂层2相搭接;④透明涂层2涂敷于坩埚基体的底部内表面,透明涂层1涂敷于坩埚基体的壁部内表面,透明涂层2与透明涂层1相搭接。 |
地址 |
310053 浙江省杭州市滨江区滨康路668号 |