高延伸率双面光超薄电解铜箔的制造方法

摘要

本发明涉及一种高延伸率双面光超薄电解铜箔的制造方法，(1)电解液中Cu2+含量70～100g/L、H2SO4含量80～150g/L；(2)每小时在每立方米40～60℃的电解液中同时滴加120～240ml a溶液、12～60ml b溶液、12～60ml明胶溶液，拌匀后，电解液流入阳极槽；(3)电解液在电场作用下，在电流密度5000～6500A/m2进行电化学反应，制得高延伸率双面光超薄电解铜箔。本发明的铜箔单位面积重量72～80g/m2、抗拉强度＞380N/mm2、表面粗糙度Ra≤0.20μm、延伸率＞5％、厚度≤9.5μm、毛面光泽度420GU。

主权项

一种高延伸率双面光超薄电解铜箔的制造方法，其特征在于：(1)取10～100g苯基聚二硫丙烷磺酸钠、10～100g聚二硫二丙烷磺酸钠、0.1～1g 2‑巯基苯骈咪唑、0.1～1g乙烯硫脲加入1立方米去离子水中溶解，得到a溶液；(2)取30～200g分子量为200～6000的聚乙二醇、50～300g十二烷基硫酸钠、质量浓度36％的盐酸2.5～47ml加入1立方米去离子水中溶解，得到b溶液；(3)硫酸铜电解液中铜离子含量70～100g/L、硫酸含量80～150g/L；(4)将硫酸铜电解液加热到40～60℃，每小时在每立方米硫酸铜电解液中同时加入120～240mla溶液、12～60mlb溶液、12～60ml明胶溶液，拌匀后，电解液进入阳极槽；(5)电解液在电场作用下，电流密度为5000～6500A/m2，进行电化学反应，制成高延伸率双面光超薄电解铜箔。