发明名称 | 真空气相沉积装置 | ||
摘要 | 提供了一种真空气相沉积装置,其中作为用于蒸发气相沉积材料的容器的坩埚放置在真空室内部,并且通过使用在所述坩埚中蒸发的气相沉积材料在基板上形成薄膜。该装置包括用于从所述真空室的外部测量所述坩埚中的所述气相沉积材料的体积的测量装置。 | ||
申请公布号 | CN101956163A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
申请号 | CN201010212691.3 | 申请日期 | 2010.06.22 |
申请人 | 三菱重工业株式会社 | 发明人 | 平野龙也;柳雄二;重冈伸之 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 刘晓峰 |
主权项 | 一种真空气相沉积装置,其中,作为用于蒸发气相沉积材料的容器的坩埚放置在真空室内,并且通过使用在所述坩埚中蒸发的气相沉积材料在基板上形成薄膜,所述真空气相沉积装置包括用于从所述真空室的外部测量所述坩埚中的所述气相沉积材料的体积的测量装置。 | ||
地址 | 日本东京 |