发明名称 |
去除光罩上的保护膜胶的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种去除光罩上的保护膜胶的方法,包括:将留有保护膜胶的光罩放置在真空室内,在所述真空室内通入氧气和水蒸气的混合气体;在真空室内氧气被电离为氧离子,水蒸气被电离为氢离子和氢氧根离子,电离得到的氧离子、氢离子和氢氧根离子与光罩的保护膜胶反应,去除光罩上的保护膜胶;在真空室内通入氮气,携带反应后的残余气体排除真空室。本发明在提高光罩使用寿命的前提下干净去除光罩上的保护膜胶。 |
申请公布号 |
CN101957554A |
申请公布日期 |
2011.01.26 |
申请号 |
CN200910054801.5 |
申请日期 |
2009.07.14 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
刘戈炜;赵蓓 |
分类号 |
G03F1/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
牛峥;王丽琴 |
主权项 |
一种去除光罩上的保护膜胶的方法,包括:将留有保护膜胶的光罩放置在真空室内,在所述真空室内通入氧气和水蒸气的混合气体;在真空室内氧气被电离为氧离子,水蒸气被电离为氢离子和氢氧根离子,电离得到的氧离子、氢离子和氢氧根离子与光罩的保护膜胶反应,去除光罩上的保护膜胶;在真空室内通入氮气,携带反应后的残余气体排除真空室。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |