发明名称 |
具有电流阻塞结构的四元系垂直发光二极管及其制备方法 |
摘要 |
具有电流阻塞结构的四元系垂直发光二极管及其制备方法,分布布拉格反射层形成于衬底上,第一型磊晶层形成于分布布拉格反射层上,发光层形成于第一型磊晶层上,第二型磊晶层形成于发光层上,表面呈凹陷的交叉状扩展条的图形化GaP窗口层形成于第二型磊晶层上;第一电极形成于图形化GaP窗口层正上方,第一电极与图形化GaP窗口层呈中空电流阻塞结构;第二电极形成于衬底背面。本发明完成常规工艺后,采用第一电极与图形化GaP窗口层形成以空气为介质的中空电流阻塞结构,以改变电流从发光层到达表面扩展层的方向,将更多的电流从GaP窗口层四周扩展后汇集至电极,使发光二极管比采用公知技术的二极管的发光效率提高30~50%。 |
申请公布号 |
CN101958378A |
申请公布日期 |
2011.01.26 |
申请号 |
CN201010260023.8 |
申请日期 |
2010.08.23 |
申请人 |
厦门市三安光电科技有限公司 |
发明人 |
许亚红;蔡家豪;廖齐华;邱姝颖;陈文欣;邱树添 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
厦门原创专利事务所 35101 |
代理人 |
徐东峰 |
主权项 |
具有电流阻塞结构的四元系垂直发光二极管,包括一衬底,分布布拉格反射层形成于衬底上,第一型磊晶层形成于分布布拉格反射层上,发光层形成于第一型磊晶层上,第二型磊晶层形成于发光层上,表面呈凹陷的十字交叉状扩展条的图形化GaP窗口层形成于第二型磊晶层上;第一电极形成于图形化GaP窗口层正上方,第一电极与图形化GaP窗口层呈中空电流阻塞结构;第二电极形成于衬底背面。 |
地址 |
361009 福建省厦门市思明区吕岭路1721-1725号 |