多光子曝光系统

摘要

本公开描述的曝光系统包括光源，所述光源沿着光轴发射光束，所述光束能够在树脂中引发多光子反应。所述曝光系统还包括树脂以及自动化系统，所述树脂经历多光子反应，所述自动化系统包括监控器，所述监控器测量选自功率、脉冲长度、形状、发散性、或在垂直于所述光轴的平面内位置的所述光束的至少一种特性。所述监控器生成表征所述光束的所述特性的至少一个信号，并且子系统响应来自所述监控器的所述信号来调整所述光束。

主权项

一种曝光系统，包括：光源，所述光源沿着光轴发射光束，其中所述光束能够在树脂中引发多光子反应；树脂，所述树脂经历多光子反应；和自动化系统，所述自动化系统包括：监控器，所述监控器测量所述光束的至少一种特性，所述至少一种特性选自功率、脉冲长度、形状、发散性或在垂直于光轴的平面内的位置，其中所述监控器生成表征所述光束的特性的至少一个信号；和子系统，所述子系统响应来自所述监控器的所述信号来调整所述光束。