发明名称 |
适于相移分析的探头的条纹投射系统和方法 |
摘要 |
适于相移分析的探头的条纹投射系统和方法。一种包括插入导管和安装在所述插入导管远端的多个光发射器的探头。探头还包括至少一个强度调节元件,从多个光发射器发出的光通过该元件以在一表面上投射多个条纹集。当多个光发射器中至少一个的一个发射器组发射光时,多个条纹集保留区的每个构成被投射的结构光图案。探头还包括用于获得表面的至少一幅图像的成像器和设置成对该至少一幅图像执行相移分析的处理单元。还提出一种使用探头在一表面上投射适于进行相移分析的多个条纹集的方法。 |
申请公布号 |
CN101957496A |
申请公布日期 |
2011.01.26 |
申请号 |
CN200910166922.9 |
申请日期 |
2009.07.17 |
申请人 |
通用电气检查技术有限合伙人公司 |
发明人 |
C·A·本达尔;G·宋;L·陶;K·G·哈丁;T·卡彭 |
分类号 |
G02B23/24(2006.01)I;G01B11/25(2006.01)I |
主分类号 |
G02B23/24(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
张雪梅;蒋骏 |
主权项 |
一种探头,包括:插入导管;设置在插入导管远端的多个光发射器;至少一个强度调节元件,多个光发射器发出的光通过该强度调节元件以投射多个条纹集到表面上,当多个光发射器的至少一个的一个发射器组发射光时,多个条纹集的每一个构成被投射的结构光图案;获得表面的至少一幅图像的成像器;和处理单元,其被配置成对至少一幅图像进行相移分析。 |
地址 |
美国宾夕法尼亚州 |