多头对准系统中的对准头的位置校准

摘要

本发明公开了在多头对准系统中的对准头的位置校准。具体地，公开了一种校准方法，当在晶片中或晶片上形成电路的光刻过程中执行时其用于在例如用于晶片表面上的标记的测量的多头对准系统中用主对准头对辅对准头进行位置校准。对至少一个辅对准头实施多个偏移量测量，使得可以测量辅对准头相对于主对准头的偏移量，并且用于在随后的晶片测量计算中作为校正数据。

主权项

一种用一个或更多个主对准头校准一个或更多个辅对准头的方法，其中所述主对准头测量对准标记；至少一个辅对准头测量相同的对准标记；和所述辅对准头相对于所述主对准头的偏移量由在所述对准标记上实施的测量获得。