具有独立等离子体源的等离子体反应器设备

摘要

本发明公开了一种用于处理工件的等离子体反应器，包括：构成反应器腔室的罩和所述腔室内的工件支架，所述罩包括面向所述工件支架的顶；环形等离子体源，包括中空凹角管道和靠近凹角外部管道的一部分的RF功率施加器，所述中空凹角管道在腔室外部并具有与腔室内部连接的一对端部同时形成经过管道延伸并贯穿工件支架直径的闭合环形路径；以及耦合至环形等离子体源的RF功率施加器的RF功率发生器。所述反应器进一步包括：具有源功率电极和VHF功率发生器的电容耦合等离子体源功率施加器和包括偏压功率电极和至少第一RF偏压功率发生器的等离子体偏压功率施加器。

主权项

一种在等离子体反应器的腔室中处理工件的方法，包括：将工艺气体导入腔室中；同时进行：a)电容耦合VHF等离子体源功率至位于晶圆上方的所述腔室的工艺区中，以及b)电感耦合RF等离子体源功率至所述工艺区中；通过调节耦合至所述工艺区中的所述电容耦合VHF功率量和所述电感耦合功率量的比例，调节下述其中之一：a)所述工艺区中的等离子体离子密度的径向分布，以及b)所述等离子体中物质的离解度；将独立可调的LF偏压功率和HF偏压功率施加给所述工件；以及通过调节所述LF和HF偏压功率之间的比例，调节所述工件表面处离子能量的平均值和总分布。