| 发明名称 | 微电子基底清洁组合物 | ||
| 摘要 | 微电子清洁组合物，其包含：a)该组合物约80％至约99％重量的至少一种有机砜；b)该组合物约0.5％至约19％重量的水；和c)该组合物约0.5％至约10％重量的至少一种提供四氟硼酸根离子的组分，和d)任选至少一种多元醇。其尤其用于从具有Si基抗反射涂层和低k电介质的微电子基底或设备清洁蚀刻/灰化残余物。 | ||
| 申请公布号 | CN101959977A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200980106838.6 | 申请日期 | 2009.02.05 |
| 申请人 | 马林克罗特贝克公司 | 发明人 | 威廉·R·格米尔 |
| 分类号 | C09D9/00(2006.01)I | 主分类号 | C09D9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 曹立莉 |
| 主权项 | 微电子基底清洁组合物，其包含：a)该组合物约80％至约99％重量的至少一种有机砜；b)该组合物约0.25％至约19％重量的水；和c)该组合物约0.25％至约10％重量的至少一种提供四氟硼酸根离子的组分其中该组合物作为10％重量水溶液的pH为3或更小。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||