| 发明名称 | 用于加工具有光致抗蚀剂层的工件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种使用曝光装置(30)加工具有光致抗蚀剂层(12)的工件(10)的方法。将透明片(20)放置在曝光装置(30)的物镜(35a)与光致抗蚀剂层(12)之间，所述透明片(20)允许从所述曝光装置(30)发射的光透射，并且将所述光致抗蚀剂层(12)由通过所述透明片(20)的光曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN101960383A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200880127773.9 | 申请日期 | 2008.12.15 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 宇佐美由久 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/36(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 柳春琦 |
| 主权项 | 一种使用曝光装置加工具有光致抗蚀剂层的工件的方法，该方法包括下列步骤：将物体放置在所述曝光装置的物镜与所述光致抗蚀剂层之间，所述物体允许从所述曝光装置发射的光透射；和将所述光致抗蚀剂层由通过所述物体的光曝光。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||