| 发明名称 | 具有空腔界定栅极的装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示方法、系统和装置，其包括一种包括以下动作的方法：形成半导体鳍片；形成与所述半导体鳍片邻近的牺牲材料；用电介质材料覆盖所述牺牲材料；通过从所述电介质材料下方移除所述牺牲材料而形成空腔；以及在所述空腔中形成栅极。 | ||
| 申请公布号 | CN101960572A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200980107635.9 | 申请日期 | 2009.02.24 |
| 申请人 | 美光科技公司 | 发明人 | 沃纳·云林 |
| 分类号 | H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/336(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 宋献涛 |
| 主权项 | 一种方法，其包含：形成半导体鳍片；形成与所述半导体鳍片邻近的牺牲材料；用电介质材料覆盖所述牺牲材料；通过从所述电介质材料下方移除所述牺牲材料而形成空腔；以及在所述空腔中形成栅极。 | ||
| 地址 | 美国爱达荷州 | ||