微光刻的投射曝光设备的照明系统的操作方法

摘要

在微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)的操作方法中，首先确定一组描述光束的属性的照明参数，该光束会聚到被照明系统(12)照明的掩模(14)上的点(72)。另外，确定其对照明参数的光学影响可根据控制指令被修改的光学元件(26，36，44，46，74，76)，以及照明参数对由控制指令引起的光学元件的调整的反应的敏感度。然后控制指令被确定，而考虑到先前确定的敏感度，使得照明参数从预定的目标照明参数的偏离满足预定的最小化原则。在掩模(14)被照明之前，将这些控制指令施加到光学元件。

主权项

微光刻投射曝光设备的操作方法，包括下面的步骤：a)确定一组描述光束属性的照明参数，所述光束会聚到被照明系统照明的掩模上的点，其中所述光束的属性包括所述光束在与所述点关联的出瞳中具有的强度分布，所述强度分布被描述为理想强度分布的扰动；b)确定光学元件，其对照明参数的光学影响可根据控制指令被修改；c)对于每个光学元件，确定所述照明参数对调整的反应的敏感度，所述调整由所述各个光学元件的所述控制指令引发；d)指定一组目标照明参数；e)确定所述控制指令，而考虑步骤c)中确定的敏感度，使得所述照明参数从所述目标照明参数的偏离满足预定的最小化原则；f)施加步骤e)中确定的所述控制指令给所述光学元件；g)照明所述掩模。