| 发明名称 | 一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液，其含有溶剂、水、氟化物、鳌合剂和聚丙烯酸类表面活性剂。本发明的含氟等离子刻蚀残留物清洗液在半导体晶片清洗中，能够有效清除晶圆刻蚀灰化后的残留物，并能有效的抑制对TiN/Ti/TiN这种三明治结构中Ti的腐蚀，提高了清洗的窗口，同时有效的控制金属和非金属的腐蚀速率。 | ||
| 申请公布号 | CN101957563A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200910054715.4 | 申请日期 | 2009.07.13 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 于昊;彭洪修;刘兵 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种含氟等离子刻蚀残留物清洗液，其特征在于：其含有溶剂、水、氟化物、鳌合剂和聚丙烯酸类表面活性剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||