| 发明名称 | 使氧化物间隔物平滑的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供用于利用化学氧化物移除(COR)处理技术来降低间隔物及其它特征的线粗糙度的方法。所述方法的实施例可用于通过材料的反应及后续移除来实现间隔物或线减小及/或使沿所述特征的边缘的表面平滑。 | ||
| 申请公布号 | CN101960560A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200880102876.X | 申请日期 | 2008.07.03 |
| 申请人 | 美光科技公司 | 发明人 | 约瑟夫·尼尔·格里利;保罗·摩根;马克·基尔鲍赫 |
| 分类号 | H01L21/033(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/033(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 沈锦华 |
| 主权项 | 一种降低硬掩模的以彼此间隔开且大体平行关系延伸的间隔物的边缘的线宽粗糙度(LWR)的方法，所述方法包含：执行化学氧化物移除以使所述间隔物的沿所述边缘的一部分转化为可分解化合物的层；及处理所述可分解化合物的所述层以从所述间隔物的所述边缘移除所述层；其中所述间隔物的所述边缘的所述线宽粗糙度(LWR)得以降低。 | ||
| 地址 | 美国爱达荷州 | ||