| 主权项 |
1.一种平面化装置,用于半导体自动测试设备(ATE)中,包含:一个具有至少一个深度测量接近孔的结构,该结构适于与一个探针卡机械式互换,在功能和机械上与该ATE相容;一个在该结构上的后平坦表面,可作用为用于该ATE的一个系统参考面;一个在该结构上的前平坦表面,与该后平坦表面相对且平行,可作用为用于该ATE的一个系统参考面;以及在该前平坦表面上的至少一个光学标靶。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中,该结构包含一个前板,附接到一个后板,该后平坦表面是在该后板上的一个表面,该前平坦表面是在该前板上的一个表面。3.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该结构有三个深度测量接近孔。4.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该前板包含玻璃。5.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该前板包含纸。6.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该前板和后板的平面度在5m的范围内,且位在实质上平行的平面。7.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该等光学标靶为在一个成对比的较暗背景下的点。8.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该等标靶是探针,探针尖端位于单一平面上。9.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该等光学标靶是突出部,具有可被往上观测摄影机看到的端点。10.如申请专利范围第2项所述之装置,在该前平坦平面的中心具有一个中心光学标靶。11.如申请专利范围第10项所述之装置,其中,该中心光学标靶以由该ATE的探测中心偏移的距离标示出。12.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,该ATE上的每个对接支座有一个对应的光学标靶,每个光学标靶半径对其对应的对接支座半径的比例相同。13.如申请专利范围第2项所述之装置,更包含方向线,将该前平坦表面的中心连接到每个光学标靶。14.如申请专利范围第2项所述之装置,其中,每个光学标靶以z高度做记号。15.如申请专利范围第1项所述之装置,其中,该结构是单个板。16.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,该单个板有三个深度测量接近孔。17.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,该等后和前平坦表面的平面度在5m范围内,且位在实质上平行的平面。18.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,该等光学标靶是在一个成对比的较暗背景下的点。19.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,该等光学标靶是探针,该等探针尖端位于单一平面上。20.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,该等光学标靶是突出部,具有可被往上观测摄影机看到的端点。21.如申请专利范围第15项所述之装置,在该前平坦平面的中心有一个中心光学标靶。22.如申请专利范围第21项所述之装置,其中,该中心光学标靶以由该ATE的探测中心偏移的距离标示出。23.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,每个光学标靶以z高度做记号。24.如申请专利范围第15项所述之装置,其中,每个光学标靶有一个在ATE上的对应对接支座,每个光学标靶半径对其对应的对接支座半径的比例相同。25.如申请专利范围第15项所述之装置,更包含方向线,将该前平坦表面的中心连接到每个光学标靶。26.一种用来在半导体自动测试设备(ATE)中达成探针卡平面化之方法,包含:提供一个平面化标准量具,其与一个探针卡可互换,功能上和机械上相容于ATE,该平面化标准量具有至少一个深度测量接近孔,该平面化标准量具亦有一个后平坦表面和一个平行于该后平坦表面的前平坦表面,该前平坦表面面对该后平坦表面的相反方向,且有至少一个在其表面上的光学标靶;以及利用该平面化标准量具来检查ATE的至少一个组件的平面度。27.如申请专利范围第26项所述之方法,更包含:利用该平面化标准量具检查ATE的所有组件的平面化。28.如申请专利范围第26项所述之方法,更包含,利用该平面化标准量具来使一个探针卡平面化。29.如申请专利范围第26项所述之方法,其中,该平面化标准量具有三个深度测量接近孔和三个光学标靶。30.一种用来在半导体自动测试设备(ATE)中达成探针卡平面化之方法,包含:提供一个平面化标准量具,其与一个探针卡可互换,功能上和机械上相容于ATE,该平面化标准量具有至少一个深度测量接近孔,该平面化标准量具亦有一个后平坦表面和一个平行于该后平坦表面的前平坦表面,该前平坦表面面对该后平坦表面的相反方向,且有至少一个在其表面上的光学标靶;以及利用该平面化标准量具,使该探针卡制造和平面度确认程序中所用的仪器和工具互相有关系。31.如申请专利范围第30项所述之方法,其中,该平面化标准量具有三个深度测量接近孔和三个光学标靶。图式简单说明:第1A图是用于晶圆拣选的典型自动测试设备(ATE)的高标准示意图。第1B图是用于晶圆拣选的ATE的另外的结构的高标准示意图。第2图是测试头和探针卡没有相对于晶圆表面平面化的系统。第3图是装设有平面化标准量具的ATE的高标准示意图。第4A图是根据本发明的教示做出的平面化标准量具的较佳实施例的侧视图。第4B图是平面化标准量具的后板的上视图。第4C图是平面化标准量具的前板的上视图。第4D图是第4C图的虚线圆圈D'圈起的区域的特写图。第5A图是平面化标准量具的另一实施例的上视图。第5B图是第5A图所示的平面化标准量具的另一实施例的侧视图。第6图是平面化标准量具的另一实施例的上视图。 |
