| 主权项 |
一种旋涂装置，用以将一涂料均匀形成于一工件的表面上，该旋涂装置包括：一喷涂装置，设置于可喷涂该工件的距离范围之内，用以喷涂该涂料于该工件的整体表面；一旋转装置，包括：一固定架，该固定架包含有一真空吸嘴，用于固定该工件；及一旋转轴，用以支撑该固定架，并对该固定架上的该工件作轴向旋转以产生一离心力，该离心力将该涂料均匀地涂布在该工件表面上，并且藉由该离心力甩除多余的该涂料；一控制器，用以控制该旋转轴之复数段转速，并且控制该喷涂装置之一喷射量；一成膜硬化装置，用于将该涂料硬化；以及一回风冷凝系统，用于将多余甩出之涂料回收。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该工件置于一真空室内作旋涂，该真空室的真空范围介于0.1巴(bar)至100巴(bar)之间。如申请专利范围第2项所述之旋涂装置，其中该真空室使用高效过滤器(HEPA)作过滤，使得该真空室达到介于级数(Class) 1000至100000之间的无尘等级环境。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该工件上方设置一扰流板，以改变气流方向。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该工件内部设计一气流回流孔，以减少扰流纹。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该喷涂装置系为复数支气体喷枪，以由不同方向做喷涂。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该固定架系具有复数个夹具，用以固定该工件。如申请专利范围第7项所述之旋涂装置，其中该些夹具系利用凸起缘干涉方式固定工件。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中当该工件的外型系为非中心对称时，该固定架与该工件系利用一动平衡校正机做校正。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该控制器控制该旋转轴之该些段转速系分成多段变化转速。如申请专利范围第9项所述之旋涂装置，其中该些段转速具有一低转速，该低转速介于每分钟30转(RPM)至每分钟500转(RPM)，用以甩除多余涂料或藉由旋转达到平均喷涂之目的。如申请专利范围第9项所述之旋涂装置，其中该控制器控制该旋转轴的该些段转速还有以至少一高转速转动，该些转速介于为每分钟500转(RPM)至每分钟10000转(RPM)。如申请专利范围第9项所述之旋涂装置，其中该工件系为平面工件，且该平面工件的一平面之尺寸大于20公分以上时，该喷涂装置喷涂该平面之内圈以及外圈以形成涂量差异，并配合该旋转轴的转速控制形成内外圈均匀膜厚。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该工件系为立体工件。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该成膜硬化装置还包含复数个反射镜，用于将一紫外线设备发出的紫外线均匀照射于该工件。如申请专利范围第1项所述之旋涂装置，其中该工件的整体表面系为不规则曲面或是规则曲面。 |
