发明名称 СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ
摘要 1. Способ очистки поверхности металлических материалов, по которому на металлическую поверхность наносят гель-электролит, содержащий полиэтиленгликоль, перхлорат щелочных металлов, трифторацетат щелочных металлов и два мономера акрилового ряда, в качестве которых используется или метилметакрилат, или метакрилат калия, или метакриловая кислота, или гидроксиэтилметакрилат, или 2(2этокси этокси) этилакрилат; указанный гель-электролит наносят на металлическую поверхность в виде (эластичной) пленки толщиной ≤ 1 мм, выдерживают этот гель-электролит на металлической поверхности до тех пор пока поверхность не очистится, после чего гель-электролит с поверхности убирают, отличающийся тем, что нанесенный на металлическую поверхность гель-электролит приводят в контакт с электродом, выполненным из нейтрального по отношению к гель-электролиту материала, и таким образом, чтобы контакт указанного электрода с очищаемой металлической поверхностью был полностью исключен, и создают между этим электродом и очищаемой металлической поверхностью электрическое напряжение такой величины, которое превышает электродный потенциал металла, загрязняющего указанную металлическую поверхность; при этом между указанным электродом и очищаемой металлической поверхностью создают электрическое напряжение и таким образом, чтобы этот электрод был анодом. ! 2. Способ очистки поверхности металлических материалов по п.1, отличающийся тем, электрическое напряжение между электродом и очищаемой поверхностью создают тем, что указанный электрод выполняют из металла, электродный потенциал которого меньше, чем электродный потенциал металла
申请公布号 RU2009125839(A) 申请公布日期 2011.01.20
申请号 RU20090125839 申请日期 2009.07.06
申请人 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет (RU) 发明人 Изаак Татьяна Ивановна (RU);Лямина Галина Владимировна (RU);Мокроусов Геннадий Михайлович (RU);Фирхова Евгения Борисовна (RU)
分类号 C23G5/00 主分类号 C23G5/00
代理机构 代理人
主权项
地址