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发明名称
摘要 A vacuum plasma source having a plasma discharge source including a cathode (7) and an anode (9), the anode (9) comprising an anode surface (21) with a cavity (27) therein and an extruded surface area (21) adjacent to said cavity (27).
申请公布号 JP2011502215(A) 申请公布日期 2011.01.20
申请号 JP20100531421 申请日期 2007.11.01
申请人 发明人
分类号 C23C14/00;C23C16/44;H01J37/32;H05H1/24;H05H1/48 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人
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