发明名称 |
清洁介质及使用该清洁介质的干式清洁设备 |
摘要 |
一种清洁介质及使用该清洁介质的干式清洁设备,所述清洁介质在清洁槽内随同气流飞行以与待清洁的对象碰撞从而去除附在所述对象上的外部物质。该清洁介质包括与对象相接触的外表面以及保持不与对象接触的内表面。清洁介质是柔性的,并形成允许气流从外部流入清洁介质内表面的形状。 |
申请公布号 |
CN101349887B |
申请公布日期 |
2011.01.19 |
申请号 |
CN200710185800.5 |
申请日期 |
2007.12.17 |
申请人 |
株式会社理光 |
发明人 |
佐藤达哉;冈本洋一;渕上明弘;种子田裕介 |
分类号 |
G03G21/00(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03G21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
王冉 |
主权项 |
一种清洁介质,该清洁介质包括:与待清洁的对象相接触的外表面以及保持不与该对象相接触的内表面;其中,所述清洁介质随同高速气流飞行,其中所述高速气流和所述清洁介质被提供用于与对象碰撞从而去除附在所述对象上的外部物质的目的;其中,清洁介质是柔性的,并形成允许高速气流从外部流入清洁介质内表面的形状,其中,所述清洁介质的杨氏模量在0.2GPa和4GPa之间。 |
地址 |
日本东京都 |