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摘要 In an immersion lithographic apparatus, bubble formation in immersion liquid is reduced or prevented by reducing a gap size or area on a substrate table and/or covering the gap.
申请公布号 JP4616241(B2) 申请公布日期 2011.01.19
申请号 JP20060315814 申请日期 2006.11.22
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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