一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法

摘要

一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法，金靶材成份按质量百分比为：Y0.1%～1.3%,Fe1.2%～3%,Cr0.5%～2.5%,In0.5%～2%,Al0.2%～1%，其余为Au。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬放入坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀，然后依次加入铟、铝及钇，将炉温控制为1150～1250℃，精炼3～5分钟，将合金浇入预热的铸铁模中，冷凝后取出，自然冷却至室温，通过铣面、冷轧、矫直和剪切操作，获得香槟色金靶材。本发明的金靶材各项技术指标均满足国际标准，用于真空磁控溅射工艺，可以避免水电镀工艺带来的环境污染并保证膜层的色度稳定。

主权项

一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材，其成份按质量百分比为： Y 0.1%～1.3%, Fe 1.2%～3%, Cr 0.5%～2.5%, In 0.5%～2%, Al 0.2%～1%，其余为Au。