发明名称 室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜及其制备方法
摘要 本发明涉及一种室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜及其制备方法,采用射频磁控溅射法,以高纯度的ZnO粉末为原料制作的ZnO陶瓷靶材作为阴极溅射靶材;对溅射仪抽真空使本底真空度达1.0×10-4~1.0×10-5Pa;然后向溅射仪中通入氩气和氧气,使溅射气压为2.7Pa,调节靶基距为40~70mm;利用溅射气体氩气放电产生等离子体轰击ZnO陶瓷靶材,沉积在衬底基片上形成ZnO薄膜;对ZnO薄膜在气氛环境中经退火处理,得到具有室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜。本发明工艺简单,操作控制方便,此方法制备的ZnO薄膜适合于短波长发光器件的研究、开发,可应用于信息存储、光通信、医疗等领域。
申请公布号 CN101096594B 申请公布日期 2011.01.19
申请号 CN200710052544.2 申请日期 2007.06.25
申请人 武汉科技学院 发明人 杨艳芹;李颂战;王水兵;刘丰;祁玉兰
分类号 C09K11/54(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I 主分类号 C09K11/54(2006.01)I
代理机构 武汉天力专利事务所 42208 代理人 程祥;冯卫平
主权项 一种室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于:采用射频磁控溅射法,以溅射仪为沉积设备,以纯度≥99.0%的ZnO粉末为原料制作的ZnO陶瓷靶材作为阴极溅射靶材;对溅射仪抽真空使本底真空度达1.0×10‑4~1.0×10‑5Pa;然后向溅射仪中通入氩气和氧气,使溅射气压为2.7Pa,调节靶基距为40~70mm;利用溅射气体氩气放电产生等离子体轰击ZnO陶瓷靶材,产生的溅射粒子在电磁场作用下沉积在衬底基片上形成ZnO薄膜;对ZnO薄膜在气氛环境中经退火处理,得到具有室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜;所用氩气和氧气是99.99%的高纯度气体,氩气和氧气的质量流量比为1∶1~7∶1;上述退火处理是在100℃~400℃温度下进行。
地址 430073 湖北省武汉市洪山区鲁巷纺织路1号
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