| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法。微光刻投射曝光设备的光学系统包括具有镜布置(200)的照明装置(10)和至少一个偏振态改变装置，该镜布置(200)具有可彼此独立调整的多个镜元件(200a、200b、200c、……)，用于改变由该镜布置(200)反射的光的角度分布，偏振态改变装置例如光弹性调制器(100)。 | ||
| 申请公布号 | CN101952779A | 申请公布日期 | 2011.01.19 |
| 申请号 | CN200980105201.5 | 申请日期 | 2009.02.06 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT股份公司 | 发明人 | 马库斯·门格尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 微光刻投射曝光装置的光学系统，包括：照明装置(10)，其包括具有多个镜元件(200a、200b、200c、……)的镜布置(200)，该多个镜元件(200a、200b、200c、……)可彼此独立调整，用于改变所述镜布置(200)反射的光的角度分布；以及至少一个偏振态改变装置(100)。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||