一种大直径硅片抛光装置

摘要

一种大直径硅片抛光装置，其特征在于：它包括：垂直方向设置的、带动硅片进行旋转的游轮圈(3)、位于游轮圈左侧的、由左传动部分(2)带动的左抛光轮(1)，位于游轮圈右侧的、由右传动部分(5)带动的右抛光轮(4)，左、右抛光轮上分别贴有用于硅片抛光的抛光垫(7)，抛光轮表面设有供抛光液到硅片表面的孔，孔与内置于传动部分和抛光轮内的软管(6)相通。本实用新型的优点是：该装置结构紧凑，硅片在抛光时处于垂直状态，硅片可以有效地避免因自重而引起的形变，同时更容易控制硅片表面的几何参数，能解决由于硅片尺寸的增大而带来的抛光问题，既提高了生产的效率，又提高了抛光片的成品率。

主权项

一种大直径硅片抛光装置，其特征在于：它包括：垂直方向设置的、带动硅片进行旋转的游轮圈(3)、位于游轮圈左侧的、由左传动部分(2)带动的左抛光轮(1)，位于游轮圈右侧的、由右传动部分(5)带动的右抛光轮(4)，左、右抛光轮上分别贴有用于硅片抛光的抛光垫(7)，抛光轮表面设有供抛光液到硅片表面的孔，孔与内置于传动部分和抛光轮内的软管(6)相通。