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发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1903398(B1) 申请公布日期 2011.01.19
申请号 EP20070253692 申请日期 2007.09.18
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 STREEFKERK, BOB;VAN DOMMELEN, YOURI JOHANNES LAURENTIUS MARIA;MOERMAN, RICHARD;GROUWSTRA, CEDRIC DESIRE
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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