发明名称 GaN基板
摘要 在本发明的GaN基板的研磨方法中,首先,一边将含研磨材(23)与润滑剂(25)的研磨液(27)供应至平台(101),一边利用平台(101)与研磨液(27)研磨GaN基板(第1研磨工序)。其次,一边将润滑剂(31)供应至埋入研磨材(29)的平台(101)上,一边利用埋入研磨材(29)的平台(101)研磨GaN基板(第2研磨工序)。
申请公布号 CN101350302B 申请公布日期 2011.01.19
申请号 CN200810145427.5 申请日期 2005.12.28
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 松本直树
分类号 H01L21/304(2006.01)I;B24B37/04(2006.01)I 主分类号 H01L21/304(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 李香兰
主权项 一种GaN基板,其通过如下研磨方法制作,所述研磨方法包括:第1研磨工序,一边将包含第1研磨材与第1润滑剂的研磨液供应至第1平台上,一边利用所述第1平台及所述研磨液研磨GaN基板;第2研磨工序,在所述第1研磨工序后,一边将第2润滑剂供应至埋入有第2研磨材的第2平台上,一边利用埋入有所述第2研磨材的所述第2平台研磨所述GaN基板;表面加工工序,在所述第2研磨工序前,对所述第2平台进行切削加工以使得平坦度为10μm以下;加料工序,在所述表面加工工序后、所述第2研磨工序前,将用于形成所述第2研磨材的第3研磨材埋入所述第2平台,所述第1平台的构成材料及所述第2平台的构成材料是含有50质量%以上的锡的合金。
地址 日本大阪府