| 发明名称 | 包含耐栅极短路的鳍式晶体管的装置及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示方法、系统及装置，其包含一种包含以下动作的方法：在衬底(102、210)中蚀刻行间沟槽(144、220)；用电介质材料(150、222)大致或完全地填充所述行间沟槽(144、220)；及至少部分地通过在所述衬底(102、210)中蚀刻栅极沟槽(164、238)来形成鳍(190、258)及绝缘突出部(168、242)。在一些实施例中，所述绝缘突出部(168、242)包含所述行间沟槽(144、220)中的所述电介质材料(150、222)中的至少一些电介质材料。 | ||
| 申请公布号 | CN101952948A | 申请公布日期 | 2011.01.19 |
| 申请号 | CN200980105433.0 | 申请日期 | 2009.01.29 |
| 申请人 | 美光科技公司 | 发明人 | 沃纳·云林 |
| 分类号 | H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/336(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 宋献涛 |
| 主权项 | 一种方法，其包括：在衬底中蚀刻行间沟槽；用电介质材料大致或完全地填充所述行间沟槽；及至少部分地通过在所述衬底中蚀刻栅极沟槽来形成鳍及绝缘突出部，其中所述绝缘突出部包含所述行间沟槽中的所述电介质材料中的至少一些电介质材料。 | ||
| 地址 | 美国爱达荷州 | ||