发明名称 | 用于相位对比成像的X射线探测器 | ||
摘要 | 本发明涉及一种X射线探测器(30),其包括敏感元件(Pi-1,b,Pia,Pib,Pi+1,a,Pi+1,b)的阵列和在两个不同的敏感元件前方以不同的相位和/或周期设置的至少两个分析器光栅(G2a,G2b)。优选地,所述敏感元件被组织为例如四个相邻的敏感元件的宏像素(IIi),其中相互具有不同相位的分析器光栅设置在所述敏感元件前面。特别地,将探测器(30)应用于X射线设备(100)以生成相位对比图像,这是由于X射线设备允许对由其在不同位置同时生成的强度图样(I)进行采样。 | ||
申请公布号 | CN101952900A | 申请公布日期 | 2011.01.19 |
申请号 | CN200980105199.1 | 申请日期 | 2009.02.09 |
申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | C·博伊默;K·J·恩格尔;C·赫尔曼 |
分类号 | G21K1/06(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/06(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王英;刘炳胜 |
主权项 | 一种X射线探测器(30),包括:a)X射线敏感元件的阵列(Pia,Pib,Pic,Pid);b)至少两个分析器光栅(Gia,Gib,Gic,Gid),其在两个不同的传感器元件前方以不同的相位和/或周期设置。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |