发明名称 HIGH-PURITY Ru ALLOY TARGET, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND SPUTTERED FILM
摘要
申请公布号 KR101007585(B1) 申请公布日期 2011.01.14
申请号 KR20087009431 申请日期 2006.06.19
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;B22F3/00 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
地址