| 发明名称 | 制造光掩模的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种制造光掩模的方法，其包括：在透明基板上形成掩模图案；在该透明基板上形成光刻胶；从该透明基板的背面将光刻胶曝光以在掩模图案上形成光刻胶图案；以及使用该光刻胶图案作为掩模校正该掩模图案中的线宽。 | ||
| 申请公布号 | CN101211103B | 申请公布日期 | 2011.01.12 |
| 申请号 | CN200710140936.4 | 申请日期 | 2007.08.10 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 郑求敏 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 彭久云;许向华 |
| 主权项 | 一种制造光掩模的方法，包括：在透明基板上方形成掩模图案；在所述透明基板上方形成光刻胶；从所述透明基板的背面将所述光刻胶曝光并且随后进行显影，使得在所述掩模图案上的光刻胶被部分移除以在所述掩模图案上形成具有期望线宽的光刻胶图案，并且其余区域中的光刻胶被移除；以及使用所述光刻胶图案作为掩模校正所述掩模图案中的线宽。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||