发明名称 溅射方法及溅射装置
摘要 提供一种溅射方法及溅射装置,在使用交流电源溅射成膜时,迅速检测出电弧放电的发生并切断交流电源的输出,可减小电弧放电时的能量并有效防止微粒和溅沫的发生。在真空室内11内设置的一对靶41a、41b上,通过交流电源E以规定的频率交替改变极性地施加电压,将各靶交替切换成为阳极电极、阴极电极,在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电形成等离子体气氛,从而对各靶进行溅射。并检测出向一对靶中输出的电压波形,当判断该输出电压波形的电压降时间比正常辉光放电的时间更短时,切断交流电源的输出。
申请公布号 CN101370959B 申请公布日期 2011.01.12
申请号 CN200780002218.9 申请日期 2007.01.11
申请人 株式会社爱发科 发明人 小林大士;中村肇;堀下芳邦;小野敦;佐藤重光;中岛利夫
分类号 C23C14/34(2006.01)I;H05H1/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 代理人 齐永红
主权项 一种对各靶进行溅射的溅射方法,通过交流电源在真空室内设置的一对靶上以规定的频率交替改变极性地施加电压,将各靶交替切换成为阳极电极、阴极电极,在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电形成等离子体气氛,从而对各靶进行溅射,其特征为:检测出向所述一对靶中输出的电压波形,当判断该输出电压波形的电压降时间比正常辉光放电的时间更短时,切断所述交流电源的输出。
地址 日本神奈川县