| 发明名称 | 掩模以及相关的光刻方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种掩模以及相关的光刻方法。该掩模包括：基底，具有有效面积区；第一图案，位于该有效面积区之中，其中该第一图案由多个切割道环绕；以及第二图案，在该基底上，其中该第二图案为自该第一图案放大。 | ||
| 申请公布号 | CN101354528B | 申请公布日期 | 2011.01.12 |
| 申请号 | CN200710138137.3 | 申请日期 | 2007.07.26 |
| 申请人 | 晶元光电股份有限公司 | 发明人 | 徐宸科;杨礼光;纪喨胜;张家祯 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 一种掩模，包括：基底，具有有效面积区；第一图案，在该有效面积区之中，其中该第一图案为由多个切割道环绕的掩模图案；以及第二图案，在该基底上，其中该第二图案为自该第一图案放大到肉眼可辨识。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||