一种用于光刻设备的对准标记和对准方法

摘要

一种用于光刻设备的对准标记，该对准标记分布在两个不同的方向上，在每个方向上至少包含两种不同周期的光栅，且每种光栅都有多个；不同周期的光栅在对准标记的每个方向上交替排列；所述不同周期的光栅的±1级衍射光经对准光学系统成像，所成像的周期分别与参考光栅的不同周期的光栅相对应。利用“十”字成像图象处理或者利用扫描拟合信号强度峰值进行位置捕获，利用较大周期光栅相干像与相应参考光栅扫描信号位相信息进行粗对准，利用较小周期光栅与相应参考光栅扫描信号位相信息进行精确对准，从而提高了对准精度，减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差。该对准标记还可被形成于硅片的曝光场之间的互相垂直的划线槽中。

主权项

一种用于光刻设备的对准标记，其特征在于：该对准标记分布在两个不同的方向上，在每个方向上至少包含两种不同周期的光栅，且每种光栅都有多个；不同周期的光栅在对准标记的每个方向上交替排列；所述不同周期的光栅的±1级衍射光经对准光学系统成像，所成像的周期分别与参考光栅的不同周期的光栅相对应。