| 发明名称 | 光电装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供光电装置及其制造方法，其中，光电装置包括：基板；第一电极，设置在所述基板上；至少一个光电转换层，设置在所述第一电极上，且包括受光层；第二电极，设置在所述光电转换层上，其中，所述受光层包括分别含有氢化非晶硅的第一子层和第二子层；所述第一子层和第二子层包括非硅元素；所述第二子层包括被所述氢化非晶硅包围的晶硅晶粒。 | ||
| 申请公布号 | CN101944542A | 申请公布日期 | 2011.01.12 |
| 申请号 | CN201010153941.0 | 申请日期 | 2010.04.23 |
| 申请人 | 韩国铁钢株式会社 | 发明人 | 明承烨 |
| 分类号 | H01L31/042(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/042(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人 | 葛强;邬玥 |
| 主权项 | 一种光电装置，包括：基板(100)；第一电极(210)，设置在所述基板上；至少一个光电转换层(230)，设置在所述第一电极上，且包括受光层(233)；第二电极(250)，设置在所述光电转换层上，其中，所述受光层包括分别含有氢化非晶硅的第一子层(233a)和第二子层(233b)；所述第一子层和第二子层含有非硅元素；所述第二子层包括被氢化非晶硅包围的晶硅晶粒。 | ||
| 地址 | 韩国庆尙南道 | ||