| 发明名称 | 一种PECVD设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种PECVD设备，包括反应腔室(1)以及安装于所述反应腔室(1)内的接地电极(2)和激励电极(3)，所述接地电极(2)的数目至少为两个，且相邻两所述接地电极(2)之间安装有所述激励电极(3)，相邻的所述接地电极(2)与所述激励电极(3)将所述反应腔室分隔成至少两个工艺区域(5)。多个被加工件可以分别在各工艺区域(5)内加工，在同等的占地面积的条件下，该设备能够一次处理较多的被加工件，从而具有较高的出产率，提高了PECVD设备的生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN201704403U | 申请公布日期 | 2011.01.12 |
| 申请号 | CN201020215854.9 | 申请日期 | 2010.05.26 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 南建辉;宋巧丽 |
| 分类号 | C23C16/513(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/513(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 魏晓波;逯长明 |
| 主权项 | 一种PECVD设备，包括反应腔室(1)以及安装于所述反应腔室(1)内的接地电极(2)和激励电极(3)，其特征在于，所述接地电极(2)的数目至少为两个，且相邻两所述接地电极(2)之间安装有所述激励电极(3)，相邻的所述接地电极(2)与所述激励电极(3)将所述反应腔室分隔成至少两个工艺区域(5)。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||